一種光學量測標準表面之處理方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094124003

專利證號

I 360660

專利獲證名稱

一種光學量測標準表面之處理方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺北科技大學

獲證日期

2012/03/21

技術說明

本發明提供一種光學量測用平面之製作方法，較佳為物理氣相沈積法 (Physical Vapor Deposition, PVD)，而且最佳為濺鍍法 （Sputtering）、及視情況之化學氣相沈積法（Chemical Vapor Deposition, CVD）之製備方法。

備註

本部(收文號1070058709)同意該校107年8月9日北科大產學字第1077900203號函申請申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

專利技轉組

連絡電話

02-87720360

網址