近場天線量測方法及其量測系統 | 專利查詢

近場天線量測方法及其量測系統


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105105870

專利證號

I 603099

專利獲證名稱

近場天線量測方法及其量測系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立中正大學

獲證日期

2017/10/21

技術說明

在一般的平面近場天線量測中,為了要讓還原後的天線遠場場型不會失真,在量測時需遵守取樣原則,也就是在兩筆量測中,空間間隔必須要小於二分之波長。但假如在量測時遵守取樣原則,就需要量測很多點數,也會很耗時。特別是高增益天線,這個原因是因為天線的面積正比於增益,所以增益越高的天線,面積就越大。在第五代行動通訊中,需要高指向性、高增益的天線,而這些天線為了達成波束合成的效果,都會使用陣列天線的架構,因此單一天線,就會需要量測好多組場形,這樣子會使得天線的量測變成非常花時間。為了解決這個耗時的問題,本專利提出了一種技術來加速近場天線量測,此技術可以藉由判斷電場變化是否劇烈,在電場變化較劇烈的地方量測多一點點數;反之,在電場變化較不劇烈的地方量測少一點點數。由於可以動態判斷天線的場形變化量。所以在量測時天線沒有限制,使用者可以依準確度的需求,而設定不同的誤差值,當然就會有不同的量測時間需求。在實驗的過程中,發現,量測的點數可以降至原始量測點數的百分之三十。因此可以大幅節省量測時間。 Generally in planar near-field antenna measurement, the antenna pattern will be perfectly reconstructed when using the sampling theorem. However, a large amount of points must be measured. To address this time-consuming problem, this paper presents a robust technique to accelerate the near-field antenna measurement. This is achieved by sampling sparsely where the E-field changes smoothly and sampling densely where the E-field changes rapidly.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術移轉授權中心

連絡電話

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