一種高分子相分離的奈米結構與其應用

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092101026

專利證號

I 280260

專利獲證名稱

一種高分子相分離的奈米結構與其應用

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2007/05/01

技術說明

本發明係提供有關於一種高分子相分離的奈米結構。此奈米結構具有網狀雙連續且相互交 叉之分離相，兩相的寬度各在0.3～10奈米之間。構成此奈米結構的兩分離相的其中之一 係由一高分子鏈段以平行排列形式所構成，而另一相則由同一團聯高分子之另一高分子鏈 段以非平行排列形式所構成。利用此奈米級網狀雙連續相所製成之薄膜為一具有透明性、 堅韌性且易於加工之新材料。其可於導電高分子、薄膜高分子、吸附高分子及生醫高分子 等領域發展其應用價值。

備註

本部(收文號1050047992)同意該校105年7月7日中大研字第1051430192號函申請終止維護專利97件(中央)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

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