位在基材上的化學膜具有Ｎ－羥基琥珀醯亞胺基的聚對二甲苯以及其形成方法、製作具有Ｎ－羥基琥珀醯亞胺基的對環芬的方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

103100440

專利證號

I 508948

專利獲證名稱

位在基材上的化學膜具有Ｎ－羥基琥珀醯亞胺基的聚對二甲苯以及其形成方法、製作具有Ｎ－羥基琥珀醯亞胺基的對環芬的方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2015/11/21

技術說明

生醫材料的植入而引起感染的問題上，仍然有很多挑戰。而這類的感染，很容易造成植入部位周邊組織的壞死，並最後造成這些生醫材料/元件失去功能；更嚴重的，造成患者永久性的傷害，甚至死亡。抗菌物質於表面改質的使用上，往往與材料表面沒有共價鍵結，容易造成抗菌物質向外釋放，對身體其他部位產生毒性刺激以及過敏反應等等的問題。本發明提供一種抗菌改質分子以及抗菌改質方法，其特徵在於：藉由光反應使式(1)所表示的分子與含苯甲酮基的光引發劑進行結合。經由本發明的抗菌改質方法而改質的基材表面不僅大幅度地降低生物膜的生成而且具備強大的殺菌能力。 Provided are an anti-microbial modified molecule and an anti-microbial modification method, which are characterized by bonding a molecule represented by formula (I) with a benzoyl-containing photoinitiator by photoreaction. A substrate surface modified by the anti-microbial modification method of the invention not only can drastically reduce the growth of biofilm but also can have a strong bactericidal capacity.

備註

本部(收文號1110044586)同意該校111年7月13日校研發字第1110052438號函申請終止維護專利(國立臺灣大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址