氧化鋅奈米線之製法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100113950

專利證號

I 412495

專利獲證名稱

氧化鋅奈米線之製法

專利所屬機關 (申請機關)

元智大學

獲證日期

2013/10/21

技術說明

本發明係為一種鋰摻雜氧化鋅奈米線之製法，其係先由硝酸鋅、硝酸鋰、六亞甲基四胺所構成與聚乙烯基亞胺混合而成之反應溶液，與去離子水進行混合，以獲得一第一混合液；再將一調整物加入該第一混合液中而成為一第二混合液，使其酸鹼值被調整至pH10.1~pH10.5之間；接著，將一鍍有鋰摻雜氧化鋅晶種層的基板置於一高壓釜內，倒入該第二混合液，反應加熱生長出鋰摻雜氧化鋅奈米線；最後，將奈米線以去離子水清洗後，再進行烘乾及熱處理，即完成一鋰摻雜氧化鋅奈米線，且其上具有複數個具有高規則及高比表面積之鋰摻雜氧化鋅奈米線；故，本發明具有可生長出高規則及高比表面積之鋰摻雜氧化鋅奈米線之優點及功效。此奈米線可應用於光催化、太陽能電池、半導體、水分解產氫及環保相關產業，深具發展潛力。 In this patent, Li-doped ZnO nanowires were prepared based on the hydrothermal method using Li-doped ZnO nanoparticles as the seed layer and, zinc、lithium nitrate,hexamethylenetetramine and Polyethyleneimine as precursor, and water as main solvent. The pH values of solutions were controlled in the range of 10.1~pH10.5. The glass substrate coated with Li-doped ZnO nanoparaticles was put in the hydrothermal can and heated for several hours, and then Li-doped ZnO nanowires were prepared on the glass substrate. These Li-doped ZnO nanowires can be applied on photocatalyst, solar cell, semiconductor, water splitting and environment protection fields.

備註

本部(發文號1110002361)同意貴校111年1月6日元智研字第1110000023號函申請終止維護專利。

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