即時檢測全場厚度的光學裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105120262

專利證號

I 601938

專利獲證名稱

即時檢測全場厚度的光學裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2017/10/11

技術說明

本技術發明之主要目的，即在提供一種即時檢測全場厚度的光學裝置。該裝置不必預知待測試片的平均厚度值或待測試試片中一點的絕對厚度值即可直接量測待測試試片的全場絕對厚度，將能節省檢測上所需的時間及相關設備的成本，並能降低不同量測架設與方法間準確度不匹配而彼此限制的缺點。 本技術發明之次要目的，即在提供一種即時檢測全場厚度的光學方法。該方法可透過取像設備擷取一張干涉條紋影像透過影像處理程序分析待測試片的全場絕對厚度。 An optical interferometric apparatus for real-time full-field thickness inspection is proposed. An image processing module in the apparatus is able to calculate the full-field thickness of a plane object.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址