一維掃瞄表面形貌量測裝置與方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100107444

專利證號

I 473963

專利獲證名稱

一維掃瞄表面形貌量測裝置與方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2015/02/21

技術說明

本專利提出「一維雷射掃瞄表面形貌量測裝置與方法」來量測表面高度或縱向位移量，其方法是利用反射率（光強度）量測的方法結合臨界角技術或多層鍍膜技術所做成的角度感測器，即利用光強度對微小角度變化有線性關係之特性以及待測物在焦平面附近其反射光因離焦距離而偏折，來進行一維掃描，進而獲得表面的高度差或縱向位移量。此方法為非破壞性、非接觸性、非光學干涉法，因此不會待測物有任何損傷，亦可避免環境擾動造成干涉條紋擾亂的缺失，可量測透明與非透明物體之表面高度，其高度解析度可高於0.3微米，橫向解析度可達幾微米以內。表面高度量測範圍達±50微米。其優點除上述之外，成本低廉、原理架構簡單與可自動量測皆是本發明之重要特點。 The patent proposes a new method for surface height or axial displacement measurement by use of an angular sensor and geometrical optics. We used a lens to focus on the test surface. The reflected beam might deflect a small angle from the optical axis when the surface departed from the focal plane. As the beam was incident into an angular sensor, the output beam intensity was opposite proportional to the incident angle. The reflectance is also proportional to the deflection angle and surface height. We measured the reflectance to detect the surface height or the defocus length. Then, to scan the sample, the surface profile was obtained. It has some merits, such as, low cost, non-contact, non-destructive, non-interfering, real-time, and high resolution.

備註

本部(收文號1070068280)同意該校107年9月26日虎科大智財字第1073400101號函申請申請終止維護專利

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