光學斷層攝影系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

100124181

專利證號

I 447352

專利獲證名稱

光學斷層攝影系統

專利所屬機關 (申請機關)

中原大學

獲證日期

2014/08/01

技術說明

本發明提供一種光學斷層攝影系統。上述光學斷層攝影系統包括一光源，發射出一光束；一偵測裝置；一光延遲裝置；一聚焦裝置；一分光裝置，將上述光束分為一第一參考光束和一第一樣品光束，其中上述第一參考光束入射至上述光延遲裝置，且上述第一樣品光束入射至上述聚焦裝置再聚焦至一樣品，且從上述光延遲裝置反射的一第二參考光束和從上述樣品反射的一第二樣品光束經由分光裝置入射至上述偵測裝置，其中上述第二參考光束沿一第一維度的不同部分具有不同的光程。 An optical system is provided. The optical system comprises a light source emitting a light beam. A beamsplitter splits the light beam into a first reference light beam and a first sample light beam. The first reference light beam is incident to an optical delay device, and the first sample light beam is incident to a focusing device, focused to a sample. A second reference light beam reflected from the optical delay device and a second sample light beam reflected from the sample are through the beamsplitter to a detection device. Different portions of the second reference light beam along a first dimension have different optical paths.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作暨專利技轉中心

連絡電話

(03)2651830

網址