三維微結構之製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

091110538

專利證號

I 203620

專利獲證名稱

三維微結構之製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2004/06/21

技術說明

本發明揭示一種三維微結構之製造方法。其採用厚膜光阻以半導體製程在基材上形成多層重 疊的微結構。藉由控制曝光之劑量(dosage)及利用抗反射層吸收曝光之光線，可在厚膜光阻 中形成埋置的微通道。重複相同的製程可將多層的微結構疊置在一起，上下層之微通道 (micro channel)也可形成相互連通的三維通路。

備註

本部(收文號1050027638)同意該校105年4月21日清智財字第1059002057號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

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