具有中空結構之高分子顆粒及其製造方法 | 專利查詢

具有中空結構之高分子顆粒及其製造方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

093120298

專利證號

I 271415

專利獲證名稱

具有中空結構之高分子顆粒及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

中原大學

獲證日期

2007/01/21

技術說明

本發明揭示了一種具有中空結構結構之高分子顆粒,此具有中空結構之高分子顆粒包含一中 空部份與一具有丙烯酸酯共聚合體(copolymer)之外殼,此丙烯酸酯共聚合體係藉由一具有一 個雙鍵之丙烯酸酯與一具有至少二個雙鍵之丙烯酸酯所聚合而成。本發明亦揭示了一種具有 中空結構之高分子顆粒的製造方法,其係藉由一種對於單體、交聯劑為良溶劑(good solvent) ,但對於共聚合體為不良溶劑(poor solvent) 之稀釋劑,以製造出上述之中空部 份與外殼結構。 本案若有化學式,請揭示最能顯示發明特徵的化學式。

備註

本部(收文號1050019607)同意該校105年3月21日原產字第1050000809號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作暨專利技轉中心

連絡電話

(03)2651830


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