可量測高解析度光學旋轉角度之電光調制線性外差干涉儀

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

097150640

專利證號

I 485362

專利獲證名稱

可量測高解析度光學旋轉角度之電光調制線性外差干涉儀

專利所屬機關 (申請機關)

遠東科技大學

獲證日期

2015/05/21

技術說明

一個新光學偏振儀被研製成功能高解析度地測量在旋光介質中的光學旋轉角度。該偏振儀測量光學旋轉角度是基於電光調製線性外差干涉儀，並利用鎖相技術來準確和靈敏地量測光學旋轉角度。一個線性雙折射介質如半波板被置於旋光介質的之後，以提高光學旋轉角度測量的解析度。該半波板的相位延遲是在光學旋轉角度測量之前被確實測量到。所提出設計之有效性是分別地由半波板和葡萄糖樣品的光學旋轉角度測量來展示的。一個半波板的旋轉角度平均相對誤差是0.00923度，相關係數經決定為0.999993，它表明在參考值與實際測量旋轉角度之間有一高度線性關係。此外，對葡萄糖溶液的濃度範圍從0到1.2克/分升(g/dl)和包括低濃度0.01克/分升的量測，旋轉角度量測之標準偏差是0.000586度，在參考值與實際測量旋轉角度值之間的相關係數是0.99989。因此，所提出的系統具有結構緊湊、易於校準、高線性度和優越的解析度等優點。

備註

本部(收文號1090019711)同意該校109年3月31日遠大昌研發(研究)字第1090000312號函申請終止維護專利(遠大)

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