鍍製光學硬膜之封閉式高能磁控濺鍍裝置及其製造方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105121174

專利證號

I 615494

專利獲證名稱

鍍製光學硬膜之封閉式高能磁控濺鍍裝置及其製造方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2018/02/21

技術說明

本專利說明一真空中之磁控濺鍍系統用來鍍製深紫外氟氧化物光學薄膜，此磁控濺鍍系統包含一封閉式電漿系統、一高功率脈衝電漿源、一薄膜反應濺鍍系統，本發明所使用之封閉式電漿系統可增加鍍膜速率及薄膜反應能力，也可維持電漿之穩定性，而此薄膜反應濺鍍系統運用室溫大氣下穩定的含氟氣體，使解離出之F離子或原子和金屬靶材作反應濺鍍，製程中所使用之高功率脈衝電漿源可確保薄膜堆積密度高，使鍍出之氟氧化物薄膜吸收損耗小且折射率高。 An invention to deposit oxyfluor aluminum films by magnetron sputtering for DUV optical coating. The magnetron sputtering system includes a closed-field magnetron sputtering system, a reactive sputtering system and a high power impulse magnetron sputtering system. The closed-field magnetron sputtering system can improve the deposition rate, the reactive ability and stabilize the plasma. The reactive sputtering system can react the sputtered metal atom with fluorine ions or atoms by introducing the stable fluorine contained gas. in the process, the high power impulse magnetron sputtering system can increase the deposition energy and the film packing density. All the systems make the oxyfluor aluminum films possess high refractive index and low optical absorption in DUV range.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

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