放電狀態監測系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101102718

專利證號

I 458581

專利獲證名稱

放電狀態監測系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2014/11/01

技術說明

霧氣中放電加工具高材料移除率與低電極消耗率，但其放電間隙過小造成大量電弧放電使得放電狀態不穩定的問題。本發明針對此問題開發一套適用於霧氣中放電加工之智慧型放電狀態監控系統，透過監控放電狀態的方式將霧氣中放電加工的放電狀態分成正常(Normal)、電弧(Arc)、點火失敗(Ignition failure)、短路(Short)及開路(Open)五種狀態，利用智慧控制電路在不同的放電狀態中調整控制，以達有效穩定放電狀態，並進一步提升霧氣中放電加工技術的可靠性。 Near Dry EDM has high material remove ratio and low electrode ware ratio, but small discharge gap bringing a lot of arc result in unstable discharge state in near Dry EDM. In this invention, the monitoring and control system of discharge state is developed for the problem. This system makes the discharge state stable and increases reliability of near Dry EDM.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址