使用多游離源作為連接介面及游離技術的層析質譜裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105111636

專利證號

I 625524

專利獲證名稱

使用多游離源作為連接介面及游離技術的層析質譜裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立中山大學

獲證日期

2018/06/01

技術說明

一種使用多游離源作為連接介面及游離技術的層析質譜裝置，包含一個以氣相層析方式分離樣品而輸出待分析物的氣相層析儀、一個以液相層析方式分離樣品而輸出待分析物的游離單元，及一設置於該游離單位下游，用以游離後之待分析物離子而進行質譜分析的質譜儀。 該游離單元包括一個能進行電噴灑的第一噴灑器，及一能進行大氣壓力化學游離的第二噴灑器。結合兩種游離源以及兩種層析方式，能適用於不同急性特性及不同分子量的成分，有利於一次性地針對組成成分複雜的樣品進行質譜分析。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學營運及推廣教育處

連絡電話

(07)525-2000#2651

網址