雙階段虛擬量測方法Dual-phase virtual metrlogy method

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

南韓

專利申請案號

10-2007-0093343

專利證號

10-0915339

專利獲證名稱

雙階段虛擬量測方法Dual-phase virtual metrlogy method

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2009/08/27

技術說明

本發明提出一種全自動化型虛擬量測(AVM)系統，其包含一個建模伺服器(Model Creation Server)及複數個AVM 伺服器。建模伺服器主要用於建置某一類型之機台的首套資料品質與虛擬量測(VM)推估模組。在全廠導入VM時，建模伺服器能將已建置完成的該一類型之機台的資料品質與VM推估模組，以自動移植之方式，擴散至其他同型機台之AVM伺服器中。並且，接受移植之AVM伺服器亦能以自動換模之方式迅速地換模，以便恢復並維持VM應有的精度。精度恢復後AVM伺服器就已備便可立即進行與VM相關之所有服務。 A method for applying an automatic virtual metrology (AVM) system that consists of a model creation server and many AVM servers is disclosed. The model creation server will generate the first set of data quality evaluation models and VM conjecture models of a certain equipment type. Under fab-wide virtual metrology deployment, the model creation server can also fan out the first set of models generated to all the AVM servers of the same equipment type. Also, each individual fan-out-accepter’s AVM server can perform an automatic model refreshing process to promptly refresh its own data quality evaluation models and VM conjecture models. As such, the virtual metrology accuracy can be maintained and the AVM server is then ready to serve.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

連絡電話

06-2360524

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