雷射直寫式奈米週期性結構圖案製程設備MANUFACTURING-PROCESS EQUIPMENT

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

12/971,466

專利證號

US 8,575,791 B2

專利獲證名稱

雷射直寫式奈米週期性結構圖案製程設備MANUFACTURING-PROCESS EQUIPMENT

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2013/11/05

技術說明

本發明關於一種雷射直寫式奈米週期性結構圖案製程設備，設有一平台組、一量測回授組及一雷射直寫頭組，該平台組設有一底座及一混合式移動平台，該量測回授組與平台組相結合且設有一雷射干涉儀、一反射裝置及一訊號接收裝置，該雷射直寫頭組設有一雷射直寫頭、一雷射直寫頭控制介面裝置及一對位介面裝置，該對位介面裝置係與量測回授組及雷射直寫頭控制介面裝置相電性連接，提供一可產生任意圖形及晶格排列之奈米孔洞、突破光學繞射極限縮小記錄點、提高加工速度、精度及加工範圍且成本低之結構圖案製程設備者。

備註

本部(收文號1060025200)同意該校106年4月14日虎科大智財字第10634000590號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

(05)6315933

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