兩段式長行程奈米級精密定位系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098145728

專利證號

I 379732

專利獲證名稱

兩段式長行程奈米級精密定位系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2012/12/21

技術說明

現今產業社會導向，自從半導體開始到現在成熟以後，奈米的領域和技術漸漸導入，已經是現今的主流之ㄧ，奈米平台更是很多精密機械產業與半導體產業的重要工具之ㄧ，而目前奈米平台的相關設備大部分是仰賴國外廠商進口的，不但設備相當昂貴，且維修也相當不易。 所以本發明將開發長行程奈米級的精密平台配合奈米級雷射干涉儀回授量測系統，藉由本發明的開發可以改善目前國內目前情形，能使廠商有效的降低成本，使廠商的競爭力能更為提升，本發明以零組件的方式組合起來，且所運用的元件都是可被模組化的，將可以有效減少未來修護上和生產上的時間，本發明具有高速、高精度、高解析度、重負荷與可同時控制三軸的優勢未來可有效運用於精密產業與半導體產業上。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

(05)6315933

網址