發明
中華民國
094111263
I250614
超大型積體電路銅導線之製備方法
國防大學
2006/03/01
本發明係有關於一種銅金屬層之製備方法,尤其指一種在一間隙內利用非均溫之化學析鍍方 法;此法是利用局部高溫直接 加熱方式,加熱基材與加熱板兩者極微小間隙之鍍液,使鍍液經由無電電鍍之析鍍原理產生 自 發均相成核,析出金屬奈米 微粒,並藉由擴散方式,直接在具有高深寬比溝渠或深孔形貌之圖像中,進行化學析鍍;另 外,本發明可利用冷卻裝置帶 走多餘的熱能,使不參與化學反應之鍍液維持穩定,不致發生自發性分解;製備過程中可適 時 添加適量抑制劑,以獲得超 薄之銅晶種連續薄膜、無孔隙之銅金屬導線、或具有(111)結晶方向之銅鍍膜。
03-3652242
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