一種以二維光學尺作六自由度量測的系統

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092107223

專利證號

I 201878

專利獲證名稱

一種以二維光學尺作六自由度量測的系統

專利所屬機關 (申請機關)

國立虎尾科技大學

獲證日期

2004/05/01

技術說明

一種以二維光學尺作六自由度量測的系統，係以雷射二極體當作光源，發射一雷射光於平台的二維(2D)光柵上使其繞射，將繞射以反射鏡所反射之光投射到干涉鏡上，使得到兩道反射光干涉，且利用光接收器來接收干涉後所得軸向偏差數據，接著使用透過分光鏡分光後得到之穿透入射光角度差異量來推算第三個軸向的偏差量，以及在二維光檢測器上所接收到的光還有分光後的垂直分光進行干涉過程的光，使用光接收器接收干涉光可幫助我們瞭解軸向誤差，而利用穿透的分光就能得到繞著三軸向旋轉的偏擺誤差，藉由結合上述六種偏差即可為六自由度誤差。 一種以二維光學尺作六自由度量測的系統，係以雷射二極體當作光源，發射一雷射光於平台的二維(2D)光柵上使其繞射，將繞射以反射鏡所反射之光投射到干涉鏡上，使得到兩道反射光干涉，且利用光接收器來接收干涉後所得軸向偏差數據，接著使用透過分光鏡分光後得到之穿透入射光角度差異量來推算第三個軸向的偏差量，以及在二維光檢測器上所接收到的光還有分光後的垂直分光進行干涉過程的光，使用光接收器接收干涉光可幫助我們瞭解軸向誤差，而利用穿透的分光就能得到繞著三軸向旋轉的偏擺誤差，藉由結合上述六種偏差即可為六自由度誤差。 NONE

備註

本部(收文號1040050424)同意該校104年7月14日虎科大智財字第10434061520號函申請終止維護專利 (多填I係為了系統儲存規則)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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