METHOD FOR NO-SILANE ELECTROLESS METAL DEPOSITION USING HIGH ADHESIVE CATALYST AND PRODUCT THEREFROM

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

16/565,824

專利證號

US 11,098,407 B2

專利獲證名稱

METHOD FOR NO-SILANE ELECTROLESS METAL DEPOSITION USING HIGH ADHESIVE CATALYST AND PRODUCT THEREFROM

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2021/10/22

技術說明

一種使用高附著性觸媒的無矽烷無電鍍金屬沉積方法包括： a) 提供一基板，對基板進行一表面改質步驟，以在基板之一表面進行氫氧化以形成一親水的化學氧化層；b) 在化學氧化層上形成一觸媒層，觸媒層包括複數個膠體奈米粒子團，每一膠體奈米粒子團包括一鈀奈米粒子及一包覆鈀奈米粒子的聚乙烯醇高分子聚合物；以及 c) 進行一無電鍍金屬沉積，使金屬沉積於觸媒層上以形成一無電鍍金屬層。本說明書亦提供一包含無矽烷無電鍍金屬層的基板。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址