改變表面漸逝波共振狀況之對稱或不對稱奈米複層膜結構

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092117928

專利證號

203961

專利獲證名稱

改變表面漸逝波共振狀況之對稱或不對稱奈米複層膜結構

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2004/06/11

技術說明

本發明改變表面漸逝波共振狀況之對稱與不對稱奈米複層膜結構，係 在表面電漿共振(Surface PlasmonResonance，SPR)晶片上設置一對稱 與不對稱之奈米複層薄膜結構。俾藉由此奈米複層薄膜結構之設計， 達到改變SPR共振之角度或波長之目的，以使SPR晶片更適用於掃描機 械結構的最佳化或可攜式儀器之未來發展。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945

網址