微奈米圖案直接接觸滾印於可撓性基板的方法Method for directly roller contact printing micro/nano pattern to flexible substrate

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

098103727

專利證號

I 374115

專利獲證名稱

微奈米圖案直接接觸滾印於可撓性基板的方法Method for directly roller contact printing micro/nano pattern to flexible substrate

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2012/10/11

技術說明

一種微奈米圖案直接接觸滾印於可撓性基板的方法，至少包含：提供一模仁具有相對之第一表面與第二表面，且第一表面設有一圖案結構包含數個凸狀部與數個凹陷部；形成一轉印材料層於凸狀部與凹陷部上；設置一可撓性基板於模仁上，其中可撓性基板之第一表面與凸狀部上之轉印材料層接觸；從模仁之第二表面進行一加熱步驟，以經由凸狀部上之經加熱後的轉印材料層局部加熱可撓性基板；利用一滾輪在可撓性基板之相對於第一表面的第二表面上進行一滾印步驟，以使凸狀部上之轉印材料層轉貼或壓入於可撓性基板之第一表面上；以及移除滾輪與模仁。 A method for directly roller contact printing a micro/nano pattern to a flexible substrate, comprising: providing a mold including a first surface and a second surface on opposite sides, and a pattern structure comprising a plurality of convex portions and a plurality of concave portions is set in the first surface; forming a transfer material layer on the convex portions and the concave portions; disposing a flexible substrate on the mold, wherein a first surface of the flexible substrate contacts with the transfer material layer on the convex portions; performing a heating step from the second surface of the mold to partially heat the flexible substrate through the heated transfer material layer on the convex portions; performing a rolling-print step on a second surface of the flexible substrate opposite to the first surface by using a roller to make the transfer material layer on the convex portions.

備註

本部(收文號1101100521)同意該校110年3月2日成大產創字第1101100521號函申請終止維護專利(成大)

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