具高滲透通量之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜及其製備方法 | 專利查詢

具高滲透通量之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜及其製備方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

110119702

專利證號

I 755332

專利獲證名稱

具高滲透通量之含二氧化矽奈米顆粒之正滲透薄膜及其製備方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立高雄科技大學

獲證日期

2022/02/11

技術說明

本發明「一種含二氧化矽奈米顆粒之正向滲透膜,含二氧化矽奈米顆粒之正向滲透膜包含一基材層與一聚醯胺(polyamide)層,且聚醯胺層中含有APTES修飾二氧化矽奈米顆粒」之技術特徵,亦無本發明正向滲透膜,具有優秀的水滲透通量與反向溶質通量選擇性(selectivity),且於處理後84小時的水回收率可以高達47%,遠高於無添加二氧化矽正向滲透膜的26%水回收率之功效;因此,搭配適當的提取溶液,本發明之含二氧化矽奈米顆粒正向滲透膜可以有效應用於廢水回收,並大幅度提高了廢水回收再利用的效率。 The present invention discloses the method to fabricate high permeate flux forward osmosis (FO) membranes comprising silicon dioxide (SiO2) nanoparticles. The FO membrane is composed of a polysulfone base layer and a polyamide surface layer. The SiO2 nanoparticles are embedded into the polyamide layer during the interfacial polymerization process. The obtained FO membrane exhibits high water permeate flux and solute selectivity. Accordingly, the present invention can be effectively used in wastewater treatment processes.

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