微結構之製造方法MANUFACTURING METHOD OF MICROSTRUCTURE

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

13/850,467

專利證號

US 9,075,311 B2

專利獲證名稱

微結構之製造方法MANUFACTURING METHOD OF MICROSTRUCTURE

專利所屬機關 (申請機關)

國立成功大學

獲證日期

2015/07/07

技術說明

一種應用於製作2D或3D複雜式陣列結構之光束聚焦點型無光罩微影技術：一透鏡決定步驟，係一經由理論分析與計算得到之最佳化光罩圖形，將其利用在準分子雷射2軸與3軸雷射拖曳加工法中可得出所設計的透鏡形貌，其為具有將光束聚焦至最小聚焦點的非球面透鏡陣列；一平台移動路徑決定一種陣列微結構，係將微小光點在塗佈有光阻層的試片進行曝光，其曝光的結構大小接近於光點尺寸，在配合精密移動平台以預先規劃好之路徑，使光點在光阻層中產生能量密度不同之能量分佈，如移動平台使其做步進運動可得2D陣列式的能量分布，若移動平台進行旋轉的移動，可得軸對稱性3D陣列式能量分布，路徑規劃可依所需的加工結構進行預先設計；一生產步驟，當規劃好之平台移動路徑後，進行曝光微影製作出2D或3D陣列式微結構。因光點在光阻層進行能量傳遞並使光阻層產生相依的化學變化，而後透過顯影液的輔助去除沒經化學反應的光阻，可於光阻層上製作出一2D或3D陣列結構，此技術可應用於大量製作出具有高複雜度之2D或3D複雜式陣列結構，並可應用在電子產業，光電產業，生醫產業等。 A mask-less beam pen lithography using focal light spots is applied to fabricate two-dimension (2D) or three-dimension (3D) complex arrayed microstructures. The fabricated process includes a numerical analysis and calculation to obtain the optimal contour mask which can apply to the fabrication of microlens array using the 2-axial or 3-axial excimer laser scanning method. Those microlenses array with a pre-designed surface profiles can minimize their focal spot size; A pre-described moving path can determine the arrayed microstructure profile. The small focal spots induce the different intensity distribution in the photo-resist layer depending on the pre-designed moving path by the automatic stage. If the automatic stage produces the step by step moving it can obtain the 2D arrayed intensity distribution in the photo-resist layer. If the automatic stage makes a revolution moving, it can produce the 3D arrayed intensity distribution in the photo-resist layer.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

企業關係與技轉中心

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06-2360524

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