光譜分析裝置及其製作方法 | 專利查詢

光譜分析裝置及其製作方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105112350

專利證號

I 585376

專利獲證名稱

光譜分析裝置及其製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣大學

獲證日期

2017/06/01

技術說明

本發明之主要目標,在於提供一種光譜儀晶片設計概念及製造方法,利用光學元件表面結合石墨烯或金屬薄層等光偵測材料之方法,製造低成本、高精確度之光譜儀晶片。使得光譜量測也可以用晶片達成,變成極為短小輕薄,且成本極低,也可能和手機整合,讓光譜檢測成為每個人都可以隨身隨地隨時進行,用來檢測食品、飲料、環境污染等等,提高生活品質和生命安全。 本技術製造之光譜儀可精確分析物質成份組成,可因應各式複雜檢驗問題。 本發明提出利用更簡易且省時的方法,可獲得更加精確之光譜儀晶片成品,且製造流程簡單,可與目前半導體製程整合,進行大量生產,以上優點說明此光譜儀晶片設計之優異性。 We have demonstrated an easier and time-saving method to manufacture the more precise spectrometer chips. The process is capable of integrating with the semiconductor process to achieve mass production. Therefore, our new-type spectrometer chip is promising for the better detection device according to the above benefits. The spectrometer produced by this technology can analyze the material composition precisely. This technique can be applied for complicated detecting requirement. The main goal of this invention is to describe the design and manufacturing method of a spectrometer chip. By the combination of the optical element and light detection material on the surface, a low-cost and high-resolution spectrometer chip could be produced.

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作總中心

連絡電話

33669945


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