白光干涉量測裝置及其干涉量測方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101109540

專利證號

I 458960

專利獲證名稱

白光干涉量測裝置及其干涉量測方法

專利所屬機關 (申請機關)

明新學校財團法人明新科技大學

獲證日期

2014/11/01

技術說明

本發明係揭露一種白光干涉量測裝置及其干涉量測方法。白光干涉量測裝置包含：一光源模組、一分光單元、一基板、一光譜儀及一處理模組。光源模組產生一白光光束。分光單元接收白光光束並將其分為一參考光束及一量測光束，參考光束透過一參考面鏡反射回分光單元。基板提供一平面以設置一待測物，量測光束傳遞至待測物，待測物反射一頂面樣品光束及一底面樣品光束至分光單元，參考光束分別與頂面樣品光束及底面樣品光束於分光單元相互干涉。光譜儀接收參考光束、頂面樣品光束、底面樣品光束，以形成一干涉圖。處理模組依據干涉圖，以計算待測物之折射率、消光係數及厚度。 The present invention discloses a white-light interference measuring device and interference measuring method thereof. The white-light interference measuring device comprises a light-source module, a beam splitter unit, a substrate, a spectrometer, a processing module. The light-source module generates the white-light beam. The white-light beam is split into a reference beam and a detecting beam by the beam splitter unit. The reference beam is reflected to the beam splitter unit by a reference flat mirror. The substrate is disposed with an analyzer which receives the detecting beam and reflects a top surface sample beam and a bottom surface sample beam to the beam splitter unit. The reference beam, the top surface sample beam and the bottom surface sample beam interfere with each other. The spectrometer receives the intensity of an interferogram. The processing module calculates index of refraction, extinction coefficient and thickness of the analyzer in accordance the interferogram.

備註

本部(收文號1060070496)同意該校106年9月7日明新(產)字第1060009364號函申請終止維護專利

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

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