低應力拋光裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

096117658

專利證號

I 322745

專利獲證名稱

低應力拋光裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立中正大學

獲證日期

2010/04/01

技術說明

本發明系與晶圓之研磨拋光技術有關，特別是指利用電磁式/壓電式振動器所產生的振動來進行拋 光之一種電磁振動式低應力拋光裝置。

備註

本部(收文號1100075930)同意該校110年12月29日中正研發字第1100910947號函申請終止維護專利(中正)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

技術移轉授權中心

連絡電話

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