形成電子裝置閘極圖案之方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094131980

專利證號

I 265564

專利獲證名稱

形成電子裝置閘極圖案之方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2006/11/01

技術說明

一種微影方法，使用兩次曝光，搭配曝光位移與蝕刻製程，在一基材表面上形成一結構，其臨界尺寸具有優於原先曝光 設備所能達到之解析極限。

備註

本部(收文號1040087827)同意該校104年12月10日交大研產學字第1041013203號函申請終止維護專利(交大)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智慧財產權中心

連絡電話

03-5738251

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