具有單晶氧化鈧接面膜的磊晶用基板之製作方法 | 專利查詢

具有單晶氧化鈧接面膜的磊晶用基板之製作方法


專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

094123194

專利證號

I275135

專利獲證名稱

具有單晶氧化鈧接面膜的磊晶用基板之製作方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2007/03/01

技術說明

1.一種具有單晶絕緣體氧化鈧(Sc2O3)接面膜的磊晶用基板之製作方法。 2.此基版可用已在磊晶成長其他半導體層於矽基版上,作為轉接的界面膜層。

備註

本部(收文號1090057669)同意該校109年9月15日清智財字第1099006426號函申請終止維護專利(清華大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219


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