發明
中華民國
094123194
I275135
具有單晶氧化鈧接面膜的磊晶用基板之製作方法
國立清華大學
2007/03/01
1.一種具有單晶絕緣體氧化鈧(Sc2O3)接面膜的磊晶用基板之製作方法。 2.此基版可用已在磊晶成長其他半導體層於矽基版上,作為轉接的界面膜層。
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