表面形貌檢測裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

103129959

專利證號

I 524049

專利獲證名稱

表面形貌檢測裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立中央大學

獲證日期

2016/03/01

技術說明

本技術為一表面形貌檢測方法及裝置，藉由所研發之表面形貌檢測裝置，可產生沿檢測方向呈梯度強度分布的輻射場(亦可視為電磁波)，使該輻射場投射於待測物，則由待測物表面反射出的反射輻射(反射波)會隨著待測物表面形貌而產生不同強度的輻射分布(場分布)。再藉由該反射輻射之能量分布或強度分布，可反推得待測物的表面形貌。本技術應用於表面形貌檢測，不僅用於單點掃描式，亦可用於線掃描與面掃描等形式。此技術在產業應用上，適用於半導體、光學元件等製程中的瑕疵檢測及表面輪廓檢測。 We propose a method and an instrument to obtain the surface profile of a sample. This instrument generates a wave with gradient intensity distribution. When such a wave encounters the sample to be tested, the reflective wave will have a specific intensity distribution according to its surface profile. In other words, the surface profile can be obtained from the reflective intensity distribution. The proposed technique can be applied to not only point-scanning, but also line-scanning and surface-scanning structures for inspecting the surface profiles of the samples.

備註

本部(收文號1100070341)同意該校110年11月25日中大研產字第1101401422號函申請終止維護專利(中央)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智權技轉組

連絡電話

03-4227151轉27076

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