奈微米結構之製造裝置與方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

093137661

專利證號

I257964

專利獲證名稱

奈微米結構之製造裝置與方法

專利所屬機關 (申請機關)

國立清華大學

獲證日期

2006/07/11

技術說明

本發明提供一種製造奈微米結構的直寫系統與方法，其中該系統和方法可用來沈積欲建構之奈微米材料，且此系統可被設計成行列式，使其可以在基材上一次沈積多種不同的奈微米材料粒子，並一次在被沈積物上建構出整個面的二維奈微米結構，再移動欲被沈積之基材，更可以迅速有效地在二維平面上建構出任意的三維奈微米結構，欲實現此一方法與系統，需包含以下之設備：（A）使用一分散器，使其可提供並分散欲建構之奈微米材料的粒子；（B）使用一可連續施加力量在分散的微小粒子上的光學推進器，用以推動欲建構之奈微米大小的材料；（C）使用一準直器，以確實控制欲沈積之奈微米粒子的行進方向在一條線上；（D）使用一隔離腔體，使基材上建構中的奈微米結構不會受到自激性粒子的污染或其它外力的影響；（E）加入一監視設備，使其能即時觀察並控制奈微米結構的組裝過程。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財技轉組

連絡電話

03-5715131-62219

網址