發光裝置以及具有此發光裝置的曝光設備

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

108117752

專利證號

I 721433

專利獲證名稱

發光裝置以及具有此發光裝置的曝光設備

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2021/03/11

技術說明

本發明之發光裝置包含光場勻化元件、第一凹面鏡、以及光源模組。光場勻化元件具有入光端以及出光端。第一凹面鏡設置於光場勻化元件的一側，具有第一反射面朝向入光端。光源模組與光場勻化元件設置於第一凹面鏡的同一側，包含複數個光源裝置。每一光源裝置包含第二凹面鏡以及光源。第二凹面鏡具有朝向第一反射面之第二反射面。光源設置於第二反射面上，發出光源光線。其中，射至第二反射面之光源光線，經由第二反射面反射至第一反射面，再經由第一反射面反射至入光端，進入光場勻化元件中進行勻化，而後出光端射出勻化光線。　

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址