雷射干涉校準儀

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

107111622

專利證號

I 641805

專利獲證名稱

雷射干涉校準儀

專利所屬機關 (申請機關)

國立雲林科技大學

獲證日期

2018/11/21

技術說明

利用雷射偵測物件移動距離，為一種非接觸式測量，此種測量方式不會影響被測物件之表面，而且具有測量範圍廣、測量快速、精度高等優點，因此其應用相當普及。例如，雷射測量在精密工業應用上，可用於測量一工具機中的移動物件的移動距離，以確保該移動物件的移動幅度準確，才能進行精密加工。而目前採用雷射裝置雖然可測量物件於X軸、Y軸與Z軸方向上的移動距離，但另一方面，對於會進行轉動的物件同樣有檢測需求。因此，開發一種利用單一設備，就可以對物件在立體空間中的移動與轉動進行檢測的裝置，為相當重要的課題。 本發明雷射干涉校準儀，適用於測量一物件沿相互垂直之一X軸、一Y軸與一Z軸的移動量，以及繞該X軸、Y軸與Z軸之轉動量，該雷射干涉校準儀包含一個光源單元、一個分光單元、一個透射反射件、一個第一角隅稜鏡、一個第一檢測裝置、一個第二角隅稜鏡，以及一個第二檢測裝置。 該分光單元用於將該光源單元發出的光分光而形成一第一檢測光與一第二檢測光。該透射反射件能供該第一檢測光通過。該第一角隅稜鏡適用於結合在該物件上，並用於將通過該透射反射件而來的該第一檢測光反射回該透射反射件。 該第一檢測裝置位於該透射反射件相反於該第一角隅稜鏡的一側，用於接收該第一檢測光發出後經由該第一角隅稜鏡反射的光，並包括一個用於偵測該物件沿該X軸的移動量的第一檢測單元，以及一個用於偵測該物件沿該Y軸與沿該Z軸的移動量的第二檢測單元。該第二角隅稜鏡適用於結合在該物件上，並用於將該第二檢測光反射。該第二檢測裝置用於接收該第二檢測光發出後被反射的光，並包括一個用於偵測該物件繞該Y軸與繞該Z軸的轉動量的第三檢測單元，以及一個用於偵測該物件沿該Y軸與沿該Z軸的移動量的第四檢測單元，且該第四檢測單元與該第二檢測單元所測到的沿該Y軸的移動量可以進行比較分析，以得到該物件繞該X軸的轉動量。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

智財管理組

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