封閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

101143624

專利證號

I 498450

專利獲證名稱

封閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法

專利所屬機關 (申請機關)

財團法人國家實驗研究院

獲證日期

2015/09/01

技術說明

本發明提供一種封閉式流道反應槽系統，包含反應槽主體、前封蓋及後封蓋。本發明提供一種使用封閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法，其步驟包含：先將觸媒前驅物或支撐材料前驅物，由該進口端注入該反應槽主體的各該封閉式流道內。再將惰性氣體經由該進口端注入，流經該等封閉式流道，並由該出口端流出，以稀釋或移除多餘之該前驅物。最後，於該反應槽主體的該等封閉式流道內進行沉積，形成觸媒或支撐材料。本發明利用原子層沉積鍍膜技術，配合一進口端推擠加壓或一出口端抽氣或該兩方法同時進行之強制流流經封閉式流道反應槽內部的反應流道內，使觸媒製備達到均勻沉積、減少貴金屬原料使用量與提升化學反應接觸之面積等目標。 The present invention presents a method based on chemical vapor deposition reactions, particularly an enclosed-channel reactor system and a method to manufacture catalysts or support materials on the basis of atomic layer deposition (ALD).

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

國研院技術移轉中心

連絡電話

02-66300686

網址