GRAPHENE QUANTUM DOTS SYNTHESIS METHOD

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

14/808,630

專利證號

US 9,725,324 B2

專利獲證名稱

GRAPHENE QUANTUM DOTS SYNTHESIS METHOD

專利所屬機關 (申請機關)

中原大學

獲證日期

2017/08/08

技術說明

1. 在室溫條件下，將石墨烯水溶液密閉於容器中，再將石墨烯水溶液固定於旋轉塗佈機上 2. 以一雷射源發出一脈衝雷射均勻照射於石墨烯水溶液，其中，脈衝雷射能量最佳為40毫焦耳(mJ)以上，旋轉塗佈機最佳設定為每分鐘轉速為80。氧化石墨烯水溶液或石墨烯水溶液中的奈米薄片將進行裂解，經一段時間後，可產出量子點 3. 在石墨烯水溶液經過裂解約5分鐘後，形成多數個奈米等級的石墨烯量子點 4. 將已產出石墨烯量子點之石墨烯水溶液再經由離心機純化與分子篩材料過濾 A graphene quantum dots synthesis method includes placing a graphene aqueous solution or a graphene oxide aqueous solution on a spin coater to spin the graphene aqueous solution or the graphene oxide aqueous solution, and irradiating a pulsed laser to a graphene aqueous solution or a graphene oxide aqueous solution to generate exfoliation. After a processing period, quantum dots are generated in the graphene aqueous solution or the graphene oxide aqueous solution.

備註

本部(收文號1090062346)同意該校109年10月13日原產字第1090003950號函申請終止維護專利(中原大學)

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作暨專利技轉中心

連絡電話

(03)2651830

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