垂直入射型折射率測量裝置

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

092126949

專利證號

I 239389

專利獲證名稱

垂直入射型折射率測量裝置

專利所屬機關 (申請機關)

國立交通大學

獲證日期

2005/09/11

技術說明

一種垂直入射型折射率測量裝置，其係將由左旋偏光及右旋偏光問有頻差的旋光外差光源所 發出來的光線，經一偏光保持光纖將光入射於一測試模組。一檢偏板抽出經高反射面鏡及待 測物垂直反射而回光束中相同的偏極光成份，並使之干涉;其干涉信號由光偵測器測得。再 利用一相位計分析光偵測器所得的訊號可得到經由待測物所引進的相位差，此相位差與待測 物的折射率有關;最後再根據瓊斯計算法(Jones CalCuluS)與斯涅耳方程式所推演出的公式 以及由外差干涉術所測出的相位差變化，便可計算出待測物的折射率。由於本發明無須使用 造成全反射的稜鏡，所以對於待測物的量測範圍將不會受探頭折射率的限制，故量測範圍較 為廣泛並以垂直入射待測物，所以裝置及操作上都更為簡單。

備註

本部(收文號1040087827)同意該校104年12月10日交大研產學字第1041013203號函申請終止維護專利

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