透明基板瑕疵複數光場繞射模型及其檢測方法 Complex Defect Diffraction Model and Method for Defect Inspection of Transparent Substrate

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

美國

專利申請案號

16/360,788

專利證號

US 10,983,478 B2

專利獲證名稱

透明基板瑕疵複數光場繞射模型及其檢測方法 Complex Defect Diffraction Model and Method for Defect Inspection of Transparent Substrate

專利所屬機關 (申請機關)

國立臺灣師範大學

獲證日期

2021/04/20

技術說明

本發明應用數位全像造影記錄方式，取得透明基板上瑕疵之波前資訊，該波 前資訊將透過所提之瑕疵繞射模型，針對瑕疵之各平面繞射場資訊進行辨認 與分類，該辨認與分類方法將透過電腦學習方式自動化進行，以達到透明基 板瑕疵之自動化分類之目的。本發明所提裝置包含：一數位全像波前存取單 元。本發明所提方法包含：一波前重建演算法; 一瑕疵繞射模組，此模組透 過定義該待辨認之瑕疵於辨認步驟中所需之有效繞射範圍與該範圍內可觀察 探討之有效繞射次數; 一基於繞射特性之瑕疵偵測演算法，該演算法在上述 繞射模組中，自動偵測玻璃瑕疵所在的位置; 一基於繞射特性之瑕疵辨識演 算法，該演算法在上述瑕疵繞射模組中，針對所偵測到的瑕疵區域，進行繞 射特徵之擷取與分析，並透過分類器實現自動化瑕疵類型之辨識。經實驗結 果驗證，本發明配合上述數位全像裝置與方法所取得的瑕疵檢測，可以成功 檢測透明基板上之多種瑕疵，諸如刮痕、水痕與灰塵等，並達到多種瑕疵的 偵測和分類之正確率各為 96%和 97%。

備註

連絡單位 (專責單位/部門名稱)

產學合作組

連絡電話

77341329

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