無酵素葡萄糖檢測晶片

專利類型

發明

專利國別 (專利申請國家)

中華民國

專利申請案號

105102964

專利證號

I 585403

專利獲證名稱

無酵素葡萄糖檢測晶片

專利所屬機關 (申請機關)

國立中興大學

獲證日期

2017/06/01

技術說明

對發展中國家的人們而言，一般典型的檢驗費用或檢測設備都不是其所能負擔，因此目前對於體外檢測產品的發展著重在低成本、高靈敏度、特異性強、簡易操作、檢測快速、穩定性佳、待測物檢測量少以及可拋棄式等特性。本產學研究計畫規劃結合中興大學生醫晶片團隊之塵蟎過敏原檢測生醫晶片技術與昇陽國際半導體之黃光微影製程設備與技術，合作開發塵蟎過敏原檢測生醫晶片量產技術。 主要製程乃是以先黃光微影及光阻熱熔製程於6”晶圓上製作微米(3μm)之光阻半球陣列結構，再於光阻半球陣列結構上濺鍍金奈米薄層電極，接著進行切割與晶片封裝，最後於半球結構上沈積均勻分佈之奈米金顆粒(約10-20 nm)，完成生醫感測電極基板，將塵蟎過敏原之配適體(Aptamer)接附於電極基版上，再藉由電化學方法來測量阻抗之變化，即可應用於塵蟎過敏原之檢測。 The current trend for in-vitro diagnosis device development requires that a device be low cost, sensitive, specific, easy to use, rapid and robust, and disposable, as well as having a small sample requirement. This is especially the case for people who live in developing countries where even common tests are not affordable and the fundamental infrastructure is often not available. This project integrates the dust mite allergen detection techniques of the National Chung-Hsig University to develop technique for mass production of dust mite allergen detection biochip. The main fabrication processes include: patterning micron and submicron photoresist pattern on a 6’’ silicon wafer, melting the photoresist at its glass transition temperature (Tg) to form an array of photoresist hemispheres, sputtering a thin film on the array of photoresist hemisphere as conducting electrode, depositing GNP on the electrode surface, and conducting the dust mite allergen detection.

備註

本部(收文號1110019123)同意該校111年4月1日興產字第1114300232號函申請終止維護專利(國立中興大學)

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